文献

J-GLOBAL ID：200902183408873206   整理番号：98A0343169

有機金属化学蒸着によるRuO₂薄膜の低温成長と配向制御

Low-temperature growth and orientational control in RuO₂ thin films by metal-organic chemical vapor deposition.

著者 (4件)： BAI G-R (Argonne National Lab., IL, USA) ,  WANG A (Argonne National Lab., IL, USA) ,  FOSTER C M (Argonne National Lab., IL, USA) ,  VETRONE J (Argonne National Lab., IL, USA)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 310  号： 1/2  ページ： 75-80  発行年： 1997年11月21日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MOCVDでSiO₂/Si(001)と...

シソーラス用語： *酸化ルテニウム ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0343169&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 有機金属化学蒸着 ,  薄膜 ,  低温成長 ,  配向制御