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J-GLOBAL ID：200902183487064571   整理番号：02A0849640

F添加SiO₂ガラスのX線小角散乱

著者 (3件)： 渡辺智大 (豊田工大) ,  斎藤和也 (豊田工大) ,  生嶋明 (豊田工大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 2  ページ： 814  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,...

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分類 (1件)： その他の非晶質の構造  (BK04040Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： SiO2 ,  ガラス ,  X線小角散乱