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J-GLOBAL ID：200902183527527707   整理番号：99A0694434

rf反応性スパッタ蒸着したTi-N膜の内部応力と結晶学的構造に及ぼす分圧の効果

Effect of partial pressure on the internal stress and the crystallographic structure of r.f. reactive sputtered Ti-N films.

著者 (4件)： INOUE S (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  OHBA T (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  TAKATA H (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  KOTERAZAWA K (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 343/344  ページ： 230-233  発行年： 1999年04月 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ti-N膜をプラズマ発光の追跡により制御したrf反応性マグネ...

シソーラス用語： *チタン化合物 ,...
準シソーラス用語： 窒化チタン

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (7件)： RF ,  反応性 ,  スパッタ蒸着 ,  Ti ,  内部応力 ,  結晶学 ,  分圧