ZnO及びIn2O3ターゲットの同時スパッタリング法による非晶質ZnO-In2O3透明導電膜

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J-GLOBAL ID：200902183664476265 整理番号：02A0687198

ZnO及びIn₂O₃ターゲットの同時スパッタリング法による非晶質ZnO-In₂O₃透明導電膜

Amorphous ZnO-In₂O₃ transparent conductive films by simultaneous sputtering method of ZnO and In₂O₃ targets.

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巻： 66 号： 3/4 ページ： 505-509 発行年： 2002年08月19日
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

対向DCプレーナマグネトロンスパッタリング系を用いてZnO-...

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酸化物薄膜 , 光物性一般 , 非晶質・液体半導体の電気伝導

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