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J-GLOBAL ID：200902184037488653   整理番号：00A0514660

バイアス支援熱フィラメント化学蒸着法によって作製した乱流層的炭化窒化ほう素薄膜

Turbostratic boron carbonitride films produced by bias-assisted hot filament chemical vapor deposition.

著者 (7件)： YU J (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  WANG E G (Inst. Physics, Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN) ,  AHN J (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  YOON S F (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  ZHANG Q (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  CUI J (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  YU M B (Nanyang Technological Univ., Singapore)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 87  号： 8  ページ： 4022-4025  発行年： 2000年04月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々の組成の標記BCN薄膜を作製した。B,C,Nの三つの元素...

シソーラス用語： *ホウ素化合物 ,...
準シソーラス用語： 炭化窒化ほう素

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： バイアス ,  支援 ,  熱フィラメント化学蒸着 ,  作製 ,  乱流 ,  炭化 ,  窒化ほう素 ,  薄膜