文献
J-GLOBAL ID:200902184240446753
整理番号:93A0960066
Plasma deposited oxynitride films: Structural and electrical characterization.
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著者 (5件):
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資料名:
ページ:
345-350
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19930557
ISBN:
1-55899-179-4
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)
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