文献
J-GLOBAL ID：200902184240446753   整理番号：93A0960066

Plasma deposited oxynitride films: Structural and electrical characterization.

著者 (5件)：
SCAGLIONE S

SCAGLIONE S について

(IESS, CNR, Roma, ITA)

IESS, CNR, Roma, ITA について

, 
MARIUCCI L

MARIUCCI L について

(ENEA, Portici(NA), ITA)

ENEA, Portici(NA), ITA について

, 
MATTACCHINI A

MATTACCHINI A について

(ENEA, Roma, ITA)

ENEA, Roma, ITA について

, 
PECORA A

PECORA A について

(ENEA, Roma, ITA)

ENEA, Roma, ITA について

, 
FORTUNATO G

FORTUNATO G について

(ENEA, Roma, ITA)

ENEA, Roma, ITA について


資料名：
Amorphous Insulating Thin Films  (Amorphous Insulating Thin Films)

Amorphous Insulating Thin Films について


ページ： 345-350  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930557  ISBN： 1-55899-179-4  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM