文献
J-GLOBAL ID：200902184348107084
整理番号：94A0408342
光酸発生基を含む高分子露光表面でのポリシロキサンの生成 ポリシロキサン形成層の厚さ制御
Polysiloxane Formation at the Polymer Surface Having Photoacid Generating Units. Control of Polysiloxane Formation Depth.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=94A0408342©=1") }}
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0408342&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Z0703B") }}
