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J-GLOBAL ID：200902184398400130   整理番号：93A0690619

高時間分解偏光解析によるSi酸化超薄膜成長の実時間観察

Real-time observation of ultra thin silicon oxide film growth by rapid ellpsometry having a high time resolution.

著者 (3件)： 黒木博 (筑波大) ,  北島正弘 (金材技研) ,  河辺隆也 (筑波大)
資料名： 日本物理学会講演概要集(年会)  (日本物理学会年会予稿集)
巻： 48th  号： 2  ページ： 432  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： S0671A  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： 分解 ,  偏光解析 ,  Si ,  酸化 ,  薄膜成長 ,  実時間 ,  観察