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J-GLOBAL ID：200902184672319655   整理番号：01A0108466

ゾル-ゲル合成ナノ多孔質シリカ膜のスクラッチ耐性の向上

Scratch-Resistant Improvement of Sol-Gel Derived Nano-Porous Silica Films.

著者 (9件)： WANG J (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  WU G M (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  SHEN J (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  YANG T H (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  ZHANG Q Y (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  DENG Z (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  FAN B (Shanghai Inst. Technical Physics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  ZHOU D (Shanghai Inst. Technical Physics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  ZHANG F (Shanghai Inst. Technical Physics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 18  号： 3  ページ： 219-224  発行年： 2000年08月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゾル-ゲル法ナノ多孔質シリカ膜はさまざまな優れた特性を持って...

シソーラス用語： *引かき硬さ ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾル-ゲル合成 ,  ナノ多孔質 ,  シリカ膜 ,  スクラッチ ,  耐性