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J-GLOBAL ID：200902185266346486   整理番号：95A0555121

選択W-CVD原料ガスのW表面及びSiO₂表面における解離吸着反応の計算機解析

Computational study on dissociative adsorptions of source gases for selective W-CVD.

著者 (3件)： 入江亮太郎 (日立 中研) ,  中村吉孝 (日立 中研) ,  小林伸好 (日立 中研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 42nd  号： Pt 2  ページ： 702  発行年： 1995年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： CVD ,  原料ガス ,  SiO2 ,  解離吸着 ,  計算機解析