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J-GLOBAL ID：200902185910537832   整理番号：93A0247890

けい素ウエハにおける全反射X線蛍光分析の基本的特徴

Basic features of total-reflection X-ray fluorescence analysis on silicon wafers.
著者 (1件)：
BERNEIKE W

BERNEIKE W について

(ATOMIKA Analysetechnik GmbH, Oberschleissheim, DEU)

ATOMIKA Analysetechnik GmbH, Oberschleissheim, DEU について


資料名：
Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy  (Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy)

Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy について


巻： 48  号： 2  ページ： 269-275  発行年： 1993年02月 
JST資料番号： B0793A  ISSN： 0584-8547  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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平坦,および研磨けい素試料表面上の励起X線の透過深さが数nm...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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全反射

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分類 (2件)：
分類
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無機物質中の元素の物理分析 
(CC03022H)

無機物質中の元素の物理分析 について

,  固体デバイス材料 
(NC03020K)

固体デバイス材料 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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けい素ウエハ

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全反射

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, 
X線蛍光分析

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