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J-GLOBAL ID：200902186010541997   整理番号：03A0019625

F₂レーザを用いたシリコーン・ラバーに対するSiO₂突起の作製

Fabrication of SiO₂-Humps on Silicone Rubber Using F₂ Laser.

著者 (3件)： TAKAO H (National Defense Acad., Yokosuka, JPN) ,  OKOSHI M (National Defense Acad., Yokosuka, JPN) ,  INOUE N (National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 41  号： 10A  ページ： L1088-L1089  発行年： 2002年10月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコーン・ラバーの表面を膨潤し,157nmのF<sub>2...

シソーラス用語： *シリコーンゴム ,...

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分類 (2件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

引用文献 (9件)：

• 1) P. R. Herman, R. S. Marjoribanks, A. Oettl, K. Chen, I. Konovalov and S. Ness: Appl. Surf. Sci. 154/155 (2000) 577.
• 2) Y. Ueno, T. Fujii and F. Kannari: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 1370.
• 3) T. Akane, K. Sugioka, S. Nomura, K. Hammura, K. Obata, N. Aoki, K. Toyoda, Y. Aoyagi and K. Midorikawa: Proc. SPIE 4088 (2000) 70.
• 4) M. Lapczyna and M. Stuke: Appl. Phys. A 66 (1998) 473.
• 5) T. Jitsuno, H. Mikata, K. Tokumura, N. Kuzuu, N. Kitamura and Y. Kawaguchi: Proc. SPIE 4088 (2000) 355.

タイトルに関連する用語 (6件)： F2レーザ ,  シリコーン ,  ラバー ,  SiO2 ,  突起 ,  作製