酸化ジルコニウムの反応性スパッタ蒸着におけるイオンビーム電流によるプロセス制御

文献

J-GLOBAL ID：200902186238069457 整理番号：93A0682401

The use of the ion beam current as a process control in the reactive sputtering of zirconium oxide.

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資料名：
巻： 230 号： 1 ページ： 48-54 発行年： 1993年07月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

Zrターゲットを反応性イオンビームスパッタにより酸素雰囲気中...

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酸化物薄膜

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