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J-GLOBAL ID：200902186275953618   整理番号：99A0700827

チタンテトライソプロポキシドからの酸化チタンのKrFレーザCVD

KrF laser CVD of titanium oxide from titanium tetraisopropoxide.
著者 (2件)：
WATANABE A

WATANABE A について

(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)

National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN について

, 
IMAI Y

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(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)

National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN について


資料名：
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

Thin Solid Films について


巻： 348  号： 1/2  ページ： 63-68  発行年： 1999年07月06日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記アルコキシドを用いてHe雰囲気中と酸素含有He雰囲気中で...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*薄膜成長

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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アルコキシド

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分類 (1件)：
分類
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酸化物薄膜 
(BK14050P)

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物質索引 (1件)：
物質索引
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チタン(IV)テトライソプロポキシド

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酸化チタン

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KrFレーザ

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CVD

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