マイクロ波電場分布の制御による非常に均一な電子サイクロトロン共鳴プラズマの生成

FURUSE M; WATANABE S; TAMURA H; FUKUMASA O

文献

J-GLOBAL ID：200902186846616029 整理番号：00A0086129

マイクロ波電場分布の制御による非常に均一な電子サイクロトロン共鳴プラズマの生成

Production of highly uniform electron cyclotron resonance plasmas by distribution control of the microwave electric field.

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資料名：
巻： 17 号： 6 ページ： 3225-3229 発行年： 1999年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ECRプラズマ中のマイクロ波電場の三次元強度分布を測定できる...

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プラズマ応用 , 固体デバイス製造技術一般

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