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J-GLOBAL ID：200902187418691349   整理番号：00A0068296

清浄な表面と改質したシリコン表面における水素との相互作用

Hydrogen interaction with clean and modified silicon surfaces.

著者 (5件)： OURA K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  LIFSHITS V G (Inst. Automation and Control Processes, Vladivostok, RUS) ,  SARANIN A A (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ZOTOV A V (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KATAYAMA M (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Surface Science Reports  (Surface Science Reports)
巻： 35  号： 1/2  ページ： 1-69  発行年： 1999年10月 
JST資料番号： E0422B  ISSN： 0167-5729  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子的に清浄なシリコン結晶表面と単原子層以下の金属/シリコン...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 半導体の表面構造  (BK15030A) ,  固-気界面一般  (CB12041H)

タイトルに関連する用語 (4件)： 改質 ,  シリコン ,  水素 ,  相互作用