SiH<sub>4</sub>/H<sub>2</sub>系の触媒化学蒸着におけるH原子の直接検出

UMEMOTO H; OHARA K; MORITA D; NOZAKI Y; MASUDA A; MATSUMURA H

文献

J-GLOBAL ID：200902187569741437 整理番号：02A0243235

SiH₄/H₂系の触媒化学蒸着におけるH原子の直接検出

Direct detection of H atoms in the catalytic chemical vapor deposition of the SiH₄/H₂ system.

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巻： 91 号： 3 ページ： 1650-1656 発行年： 2002年02月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

二光子レーザ誘起蛍光法と真空紫外分光法を用いて触媒CVDプロ...

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半導体薄膜

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SiH4/H2系の触媒化学蒸着におけるH原子の直接検出

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