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J-GLOBAL ID：200902188678380750   整理番号：99A0141324

ナノメートル加工の応用 (1) 真空マイクロエレクトロニクスへの応用

Application of nanofabrication technology to vacuum microelectronics.

著者 (3件)： 伊藤順司 (電総研) ,  金丸正剛 (電総研) ,  松川貴 (電総研)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 67  号： 12  ページ： 1390-1394  発行年： 1998年12月 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 真空マイクロエレクトロニクス研究の現状を,ナノメートル加工の...

シソーラス用語： *ナノメータ加工 ,...

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分類 (2件)： その他の固体デバイス  (NC03150A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (23件)：

• 1) J. Itoh: Appl. Surf. Sci. 111, 194 (1997) .
• 2) 伊藤順司:静電気学会誌 21, 119(1997).
• 3) S. Itoh, T. Watanabe, K. Ohtsu, M. Yokoyama and M. Taniguchi: Jpn. J. Appl. Phys. 32, 3955 (1993).
• 4) S. Itoh, T. Watanabe, K. Ohtsu, M. Taniguchi, S. Uzawa and N. Nishimur-a: J. Vac. Sci. Technol. B 13, 487(1995).
• 5) 伊藤順司,金丸正剛:表面科学 17, 718 (1996).

タイトルに関連する用語 (2件)： 応用 ,  真空マイクロエレクトロニクス