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J-GLOBAL ID：200902188755498875   整理番号：01A1049045

ポジ型フォトレジストのためのペンダントケタール基を持つ新規重合体の調製と特性化

Preparation and Characterization of Novel Polymers Having Pendant Ketal Moieties for Positive Photoresists.

著者 (2件)： LIU J-H (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  SHIH J-C (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
資料名： Macromolecular Chemistry and Physics  (Macromolecular Chemistry and Physics)
巻： 202  号： 15  ページ： 2986-2991  発行年： 2001年10月17日 
JST資料番号： D0010A  ISSN： 1022-1352  CODEN： MCHPES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタクリル酸1,3-ジオキサン-4-メチル(DDMA)及びメ...

シソーラス用語： *フォトレジスト ,...
準シソーラス用語： ケタール ,...

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  印刷技術一般  (ZA05010T)

物質索引 (5件)： メタクリル酸 ,  メタクリル酸メチル ,  メタクリル酸ブチル ,  メタクリル酸(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル ,  メタクリル酸(1,4-ジオキサスピロ[4.5]デカン2-イル)メチル

タイトルに関連する用語 (5件)： ポジ型フォトレジスト ,  ケタール ,  新規重合体 ,  調製 ,  特性化