反応性イオンめっきにより作製した透明低抵抗のIn<sub>2</sub>O<sub>3</sub>膜

JEONG J I; MOON J H; HONG J H; KANG J S; LEE Y P

文献

J-GLOBAL ID：200902188777902076 整理番号：94A0297924

反応性イオンめっきにより作製した透明低抵抗のIn₂O₃膜

Low-resistivity transparent In₂O₃ films prepared by reactive ion plating.

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資料名：

Applied Physics Letters (Applied Physics Letters)

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巻： 64 号： 10 ページ： 1215-1217 発行年： 1994年03月07日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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