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J-GLOBAL ID：200902189283728410   整理番号：94A0198011

光電気化学法により作製したポーラスシリコンとその上に成膜したダイヤモンド薄膜

Porous Silicon Prepared by Photoelectrochemical Etching and Diamond Film Formed on the Silicon.

著者 (3件)： 村木雄介 (東大 工) ,  橋本和仁 (東大 工) ,  藤嶋昭 (東大 工)
資料名： 日本写真学会年次大会講演要旨  (日本写真学会年次大会講演要旨集)
巻： 1993  ページ： 151-153  発行年： 1993年05月 
JST資料番号： L1436A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光電気化学 ,  作製 ,  ポーラスシリコン ,  成膜 ,  ダイヤモンド薄膜