パルスマグネトロンスパッタリングによって反応性蒸着したAl<sub>2</sub>O<sub>3</sub>層の構造と特性に及ぼす被覆パラメータの影響

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J-GLOBAL ID：200902190104370140 整理番号：97A0131743

パルスマグネトロンスパッタリングによって反応性蒸着したAl₂O₃層の構造と特性に及ぼす被覆パラメータの影響

Influence of coating parameters on the structure and properties of Al₂O₃ layers reactively deposited by means of pulsed magnetron sputtering.

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資料名：
巻： 86/87 号： 1/3 Pt 2 ページ： 640-647 発行年： 1996年12月15日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

パルス反応性マグネトロンスパッタリング(PMS)を使えば結晶...

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気相めっき , 金属材料へのセラミック被覆

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