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J-GLOBAL ID：200902190175280346   整理番号：97A0541994

電子ビームを用いたナノ構造形成とそのナノメータデバイスへの応用

Nanostructure Fabrication Using Electron Beam and Its Application to Nanometer Devices.
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著者 (1件)：
MATSUI S

MATSUI S について

(NEC Corp., Tsukuba, JPN)

NEC Corp., Tsukuba, JPN について


資料名：
Proceedings of the IEEE  (Proceedings of the IEEE)

Proceedings of the IEEE について


巻： 85  号： 4  ページ： 629-643  発行年： 1997年04月 
JST資料番号： D0378A  ISSN： 0018-9219  CODEN： IEEPAD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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市販電子ビーム(EB)露光システムを用い,10nm間隔の有機...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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電子ビームリソグラフィー

電子ビームリソグラフィー について

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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SET【トランジスタ】

SET【トランジスタ】 について


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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (4件)：
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電子ビーム

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構造形成

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ナノメータ

ナノメータ について

, 
応用

応用 について


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