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J-GLOBAL ID：200902190289101336   整理番号：93A0788013

静的及び流動条件下でのR7T7ガラスの溶解 浸漬層中でのSiの拡散機構の影響

Dissolution of R7T7 glass in static and flowing conditions: Influence of Si diffusion mechanism in the leached layer.

著者 (3件)： DELAGE F (CEN-VALRHO, Bagnols-sur-Ceze, FRA) ,  LARCHE F (Univ. Montpellier II, Montpellier, FRA) ,  VERNAZ E (CEN-VALRHO, Bagnols-sur-Ceze, FRA)
資料名： Scientific Basis for Nuclear Waste Management 16  (Scientific Basis for Nuclear Waste Management 16)
ページ： 171-176  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930454  ISBN： 1-55899-189-1  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： R7T7ガラスの浸出試験と,ガラス溶解モデルによる計算から,...

シソーラス用語： 放射性廃棄物 ,...

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分類 (1件)： 放射性廃棄物  (MB05000Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： 流動 ,  ガラス ,  溶解 ,  浸漬 ,  Si ,  拡散