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J-GLOBAL ID：200902190325984827   整理番号：01A0733981

窒素ドーピングによる二酸化チタンのバンドギャップの狭まり

Band-Gap Narrowing of Titanium Dioxide by Nitrogen Doping.

著者 (5件)： MORIKAWA T (Toyota Central R&D Lab., Aichi, JPN) ,  ASAHI R (Toyota Central R&D Lab., Aichi, JPN) ,  OHWAKI T (Toyota Central R&D Lab., Aichi, JPN) ,  AOKI K (Toyota Central R&D Lab., Aichi, JPN) ,  TAGA Y (Toyota Central R&D Lab., Aichi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 40  号： 6A  ページ： L561-L563  発行年： 2001年06月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiNの酸化によりルチル格子における0.1%のNドープを含ん...

シソーラス用語： *酸化チタン ,...
準シソーラス用語： *禁止帯 ,...

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分類 (2件)： 無機化合物の可視・紫外スペクトル  (BM08084P) ,  不純物・欠陥の電子構造  (BM02100I)

引用文献 (19件)：

• 1) A. K. Ghosh and H. P. Muruska: J. Electrochem. Soc. 124 (1977) 1516.
• 2) E. Borgarello, J. Kiwi, M. Graetzel, E. Pelizzetti and M. Visca: J. Am. Chem. Soc. 104 (1982) 2996.
• 3) Y. Matsumoto, J. Kurimoto, Y. Amagasaki and E. Sato: J. Electrochem. Soc. 127 (1980) 2148.
• 4) W. Choi, A. Termin and M. R. Hoffmann: J. Phys. Chem. 98 (1994) 13669.
• 5) D. H. Lee, Y. S. Cho, W. I. Yi, T. S. Kim, J. K. Lee and H. J. Jung: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 815.

タイトルに関連する用語 (3件)： 窒素ドーピング ,  二酸化チタン ,  バンドギャップ