アナログレジスト上の電子ビーム直接描画及び単独化学支援イオンビームエッチングステップを用いたモノリシック回折光学素子の製造

DAESCHNER W; LARSSON M; LEE S H

文献

J-GLOBAL ID：200902190581337545 整理番号：95A0539335

アナログレジスト上の電子ビーム直接描画及び単独化学支援イオンビームエッチングステップを用いたモノリシック回折光学素子の製造

Fabrication of monolithic diffractive optical elements by the use of e-beam direct write on an analog resist and a single chemically assisted ion-beam-etching step.

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巻： 34 号： 14 ページ： 2534-2539 発行年： 1995年05月10日
JST資料番号： B0026B ISSN： 1559-128X CODEN： APOPAI 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

高品質,耐環境性のの高い標記回折光学素子(DOE)の製造方法...

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光デバイス一般 , 固体デバイス製造技術一般

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