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J-GLOBAL ID：200902190911047816   整理番号：02A0127190

Effect of Reactive Ambient on AlN Sublimation Growth.

著者 (5件)： KARPOV S YU (Soft-Impact, Ltd., St. Petersburg, RUS) ,  KULIK A V (Soft-Impact, Ltd., St. Petersburg, RUS) ,  SEGAL A S (Soft-Impact, Ltd., St. Petersburg, RUS) ,  RAMM M S (A.F. Ioffe Physical-Technical Inst., RAS, St. Petersburg, RUS) ,  MAKAROV YU N (STR, Inc., VA, USA)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applied Research  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 188  号： 2  ページ： 763-767  発行年： 2001年11月23日 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： AlN