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J-GLOBAL ID：200902192482990639   整理番号：01A0282999

Bi₂Sr₂CaCu₂O_y薄膜作製に及ぼす成長速度とバッファ層の効果

Effects of growth rate and buffer-layer on Bi₂Sr₂CaCu₂O_y thin film fabrication.

著者 (4件)： QI Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SAKAI K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MURAKAMI H (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ITO T (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 169/170  ページ： 335-339  発行年： 2001年01月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MgO基板上に作製した標記高温超伝導体(Bi2212)薄膜の...

シソーラス用語： *高温超伝導体 ,...
準シソーラス用語： BSCCO

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分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜作製 ,  成長速度 ,  バッファ層