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J-GLOBAL ID：200902192565609007   整理番号：96A1016020

スパッタリングによって斜め蒸着したコバルト膜のヒステリシスループ

Hysteresis loops of cobalt films deposited obliquely by sputtering.

著者 (5件)： HARA K (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  ITOH K (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  KAMIYA M (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  OKAMOTO K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  HASHIMOTO T (Tottori Univ., Tottori, JPN)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 161  ページ： 287-291  発行年： 1996年08月 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スパッタリングによって斜め蒸着したコバルト膜中の結晶粒の幾何...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： Schluz法

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分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタリング ,  斜め蒸着 ,  コバルト ,  ヒステリシスループ