文献
J-GLOBAL ID：200902192947477801   整理番号：94A0896890

PbTiO3膜とSi基板の相互作用

Interaction of PbTiO3 Films with Si Substrate.
著者 (5件)：
SHICHI Y

SHICHI Y について

(Nissan ARC Ltd., Yokosuka)

Nissan ARC Ltd., Yokosuka について

, 
TANIMOTO S

TANIMOTO S について

(Nissan Motor Co., Ltd., Yokosuka)

Nissan Motor Co., Ltd., Yokosuka について

, 
GOTO T

GOTO T について

(Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo)

Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo について

, 
KUROIWA K

KUROIWA K について

(Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo)

Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo について

, 
TARUI Y

TARUI Y について

(Waseda Univ., Tokyo)

Waseda Univ., Tokyo について


資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers について


巻： 33  号： 9B  ページ： 5172-5177  発行年： 1994年09月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記膜が単結晶Si基板上で成長しにくい理由を調べた。膜をSi...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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MOCVD

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準シソーラス用語：
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MFS構造

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分類 (2件)：
分類
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酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

,  金属-絶縁体-金属構造 
(BM03087F)

金属-絶縁体-金属構造 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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Si基板

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, 
相互作用

相互作用 について


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