Bulk and surface properties of RTCVD Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> films for optical device applications.

文献

J-GLOBAL ID：200902193068772839 整理番号：93A0466221

Bulk and surface properties of RTCVD Si₃N₄ films for optical device applications.

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巻： 69 号： 1/4 ページ： 198-203 発行年： 1993年05月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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