文献

J-GLOBAL ID：200902193539656516   整理番号：94A0068999

Sn吸着によるSi(111)7×7表面の再構築過程の高温STM観察

High temperature STM study of restructuring processes of the Si(111) surface upon Sn deposition.

著者 (2件)： 柴田晃秀 (東京工大) ,  高柳邦夫 (東京工大)
資料名： 日本物理学会講演概要集(分科会)  (日本物理学会分科会講演予稿集)
巻： 1993  号： Autumn Pt 2  ページ： 558  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： S0872B  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： Sn ,  吸着 ,  Si ,  再構築 ,  過程 ,  STM ,  観察