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J-GLOBAL ID：200902196073632505   整理番号：02A0547852

SiとSiO₂の親水性結合に対するプラズマ活性化の影響

Effects of Plasma Activation on Hydrophilic Bonding of Si and SiO₂.

著者 (4件)： SUNI T (VTT Electronics, Espoo, FIN) ,  HENTTINEN K (VTT Electronics, Espoo, FIN) ,  SUNI I (VTT Electronics, Espoo, FIN) ,  MAEKINEN J (Okmetic Oyj, Vantaa, FIN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 149  号： 6  ページ： G348-G351  発行年： 2002年06月 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性イオンエッチングモードプラズマ活性化を利用してSiウエ...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： *プラズマプロセシング

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  SiO2 ,  親水性 ,  プラズマ ,  活性化