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J-GLOBAL ID：200902196253223573   整理番号：03A0086240

スパッタNiO薄膜の物理特性に及ぼすプロセスパラメータ及びアニール温度の影響

The influence of process parameters and annealing temperature on the physical properties of sputtered NiO thin films.

著者 (6件)： HOTOVY I (Slovak Univ. Technol., Bratislava, SVK) ,  HURAN J (Inst. Electrical Engineering, Slovak Acad. Sci., Bratislava, SVK) ,  SPIESS L (Technische Univ. Ilmenau, Ilmenau, DEU) ,  LIDAY J (Slovak Univ. Technol., Bratislava, SVK) ,  SITTER H (Johannes Kepler Univ., Linz, AUT) ,  HASCIK S (Inst. Electrical Engineering, Slovak Acad. Sci., Bratislava, SVK)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 69  号： 1/3  ページ： 237-242  発行年： 2002年12月24日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素含有量が20~60%のNiO薄膜を反応性DCマグネトロン...

シソーラス用語： *酸化ニッケル ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (7件)： スパッタ ,  NiO ,  薄膜 ,  物理特性 ,  プロセス ,  パラメータ ,  アニール温度