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J-GLOBAL ID：200902197551568270   整理番号：01A0701888

146nmでの照射時のスルホン酸発生剤としての高分子

Polymers as sulfonic acid generator on irradiation at 146nm.

著者 (3件)： SHINOZUKA T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： European Polymer Journal  (European Polymer Journal)
巻： 37  号： 8  ページ： 1625-1634  発行年： 2001年08月 
JST資料番号： B0690A  ISSN： 0014-3057  CODEN： EUPJA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オキシム又はN-ヒドロキシイミドから誘導したスルホン酸エステ...

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,...
準シソーラス用語： FTIRスペクトル

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分類 (3件)： 芳香族単環スルホン酸・スルフィン酸・スルフェン酸  (CF05140B) ,  共重合  (CG04030D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (10件)： スチレン ,  メタクリル酸メチル ,  スチレン-4-スルホン酸(1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1-イリデン)アミノ ,  スチレン-4-スルホン酸イソプロピリデンアミノ ,  スチレン-4-スルホン酸(9H-フルオレン-9-イリデン)アミノ ,  スチレン-4-スルホン酸(1,3,3a,4,7,7a-ヘキサヒドロ-1,3-ジオキソ-4,7-メタノ-2H-イソインドール-2-イル) ,  スチレン-4-スルホン酸(1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-2H-イソインドール-2-イル) ,  スチレン-4-スルホン酸(2,5-ジオキソピロリジン-1-イル) ,  メタクリル酸tert-ブチル ,  スチレン-4-スルホン酸シクロヘキシル

タイトルに関連する用語 (3件)： スルホン ,  酸発生剤 ,  高分子