Microroughness at the Si/SiO<sub>2</sub> interface from pre-oxidation annealing, measured using quantum oscillations in Fowler-Nordheim tunneling currents.

文献

J-GLOBAL ID：200902197595198917 整理番号：94A0079168

Microroughness at the Si/SiO₂ interface from pre-oxidation annealing, measured using quantum oscillations in Fowler-Nordheim tunneling currents.

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ページ： 139-142 発行年： 1993年
JST資料番号： K19930662 ISBN： 1-55899-175-1 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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