希薄ふっ化水素酸溶液からシリコン上への銅析出の電気化学的インピーダンス分光法

CHENG X; LI G; KNEER E A; VERMEIRE B; PARKS H G; RAGHAVAN S; JEON J S

文献

J-GLOBAL ID：200902198039861620 整理番号：98A0193172

希薄ふっ化水素酸溶液からシリコン上への銅析出の電気化学的インピーダンス分光法

Electrochemical Impedance Spectroscopy of Copper Deposition on Silicon from Dilute Hydrofluoric Acid Solutions.

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資料名：
巻： 145 号： 1 ページ： 352-357 発行年： 1998年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

電気化学的インピーダンス法が希薄HF溶液中のppbレベルのC...

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固体デバイス材料 , 電気化学反応

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