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J-GLOBAL ID：200902199531360853   整理番号：98A0626116

電子サイクロトロン共鳴スパッタリング法による窒化炭素薄膜の合成

Synthesis of Carbon Nitride Films by Electron Cyclotron Resonance Sputtering Deposition Method.

著者 (3件)： 谷庸治 (龍谷大 大学院) ,  青井芳史 (龍谷大 理工) ,  上条栄治 (龍谷大 理工)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 41  号： 5  ページ： 512-515  発行年： 1998年05月 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 窒化炭素膜を窒素雰囲気中での炭素ターゲットのECRプラズマス...

シソーラス用語： *炭素化合物 ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (12件)：

• 松岡茂登. 応用物理. 1988, 57, 1301
• LIU, A. Y. Phts.Rev.B. 1990, 41, 10727
• LIU, A. Y. Phys.Rev.B. 1994, 50, 10362
• GUO, Y. Chem.Phys.Lett. 1995, 237, 72
• NIU, C. Science. 1993, 261, 334

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子サイクロトロン共鳴 ,  スパッタリング法 ,  窒化 ,  炭素薄膜