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J-GLOBAL ID：200902200116973040   整理番号：09A0114933

PJD用に最適化した二頭ノズル式粉末噴射装置の設計

Design of Double Nozzle Type Powder Jet Device Optimized for PJD

著者 (6件)： SHIBUYA Toshihiko (Sendai Nikon Corp., Natori, JPN) ,  SEPASY Mohammad Saeed (Univ. Tehran, Tehran, IRN) ,  MIZUTANI Koichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YOSHIHARA Nobuhito (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAN Jiwang (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KURIYAGAWA Tsunemoto (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 389/390  ページ： 398-403  発行年： 2009年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MEMSでは厚膜が必要であるが,CVDなどで得られる膜は堆積速度が遅く,厚膜作製には不向きである。厚膜作製法として粉末噴射体積法(PJD)を提案した。PJD法では室温,大気圧下でノズルから微粒子が噴射され,基板へ厚膜を堆積させる。各種寸法,形状のノズルが粒子ブラスト速度へ及ぼす影響を実験し,ノズル形状を最適化した。ノズル径は粒子速度に影響することが分かった。

シソーラス用語： *厚膜 ,  粒子速度 ,  *噴射 ,  *粉体流 ,  ノズル ,  スプレー塗装

分類 (1件)： 特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 最適化 ,  粉末 ,  噴射 ,  設計