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J-GLOBAL ID：200902200124255610   整理番号：07A0044472

電析CoFe薄膜の磁気特性に及ぼすめっき下地層の影響

著者 (7件)： LIN Bingrong (早稲田大 大学院) ,  平岩稔久 (早稲田大 大学院) ,  中西卓也 (早大 科健機構) ,  杉山敦史 (早大 材研) ,  逢坂哲彌 (早稲田大 大学院) ,  逢坂哲彌 (早大 科健機構) ,  逢坂哲彌 (早大 材研)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 113th  ページ： 46-47  発行年： 2006年03月08日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 金属薄膜 ,...

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分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電析 ,  薄膜 ,  磁気特性 ,  めっき ,  下地層