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J-GLOBAL ID：200902202039336646   整理番号：03A0848189

p-MSQ低k素子に用いる洗浄液

Cleaning Solutions for p-MSQ Low-κ Device Applications

著者 (4件)： WALDFRIED C (Axcelis Technol., Inc., Maryland, USA) ,  ESCORCIA O (Axcelis Technol., Inc., Maryland, USA) ,  HAN Q (Axcelis Technol., Inc., Maryland, USA) ,  SMITH P B (Texas Instruments, Inc., Texas, USA)
資料名： Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)
巻： 6  号： 12  ページ： G137-G139  発行年： 2003年12月 
JST資料番号： W1290A  ISSN： 1099-0062  CODEN： ESLEF6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔性メチルシルセスキオキサン(p-MSQ)低誘電率(k)素...

シソーラス用語： 多孔性 ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング

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分類 (2件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： オクタメチルシルセスキオキサン

タイトルに関連する用語 (1件)： 洗浄液