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J-GLOBAL ID：200902202420503133   整理番号：03A0688802

中性子反射率測定による高分子界面での分子拡散挙動評価 中性子反射率測定による(ポリスチレン/重水素化ポリスチレン)二層膜界面厚の分子量依存性

Molecular Weight Dependence of Interfacial Broadening at (Polystyrene/Deuterated Polystyrene) Bilayers below Bulk Glass Transition Temperature by Neutron Reflectivity.

著者 (5件)： KAJIYAMA T (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAWAGUCHI D (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  TANAKA K (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  TASAKI S (Kyoto Univ., Osaka, JPN) ,  TAKAHARA A (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： 日本原子力研究所JAERI-Review
ページ： 252  発行年： 2003年07月 
JST資料番号： L2149A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子膜の内部と表面部分では自由エネルギーの差があり分子運動...

シソーラス用語： ポリスチレン ,...

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分類 (2件)： 中性子回折法  (BK01060A) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (11件)： 中性子反射率測定 ,  高分子 ,  界面 ,  分子拡散 ,  挙動 ,  評価 ,  ポリスチレン ,  水素化ポリスチレン ,  二層膜 ,  厚 ,  分子量依存性