文献

J-GLOBAL ID：200902202539635682   整理番号：09A0597065

温度制御か焼による強酸性スルホ官能基化メソポーラスシリカの容易な合成

Facile synthesis of sulfo-functionalized mesoporous silica with strong acidity by temperature-controlled calcination

著者 (3件)： YEOH Fei-Yee (Toyohashi Univ. Technol., Toyohashi, JPN) ,  MATSUMOTO Akihiko (Toyohashi Univ. Technol., Toyohashi, JPN) ,  BABA Toshihide (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Porous Materials  (Journal of Porous Materials)
巻： 16  号： 3  ページ： 283-289  発行年： 2009年06月 
JST資料番号： W1100A  ISSN： 1380-2224  CODEN： JPMAFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MCM-41表面はシラノールとシロキサン基からなり,触媒不活性である。本論文では,チオール官能化したシリカを空気中で温度を制御してか焼し,スルホ基に部分的に酸化する方法を用いて,チオール基の酸化と同時に表面活性剤を除去した。この経路で得たスルホ基化メソ多孔質シリカのキャラクタリゼーションを行い,溶媒抽出で得た試料と比較し,試料の表面酸性度を吸着マイクロ熱量計で測定した。スルホまたはスルホプロピル基は温度制御か焼でメソ多孔質シリカ上に保持され,高いNH₃吸着量とより低い吸着エネルギーを有する材料となった。

シソーラス用語： *多孔質体 ,  *スルホン化 ,  *官能化 ,  *か焼 ,  温度制御 ,  メルカプト基 ,  酸性度 ,  アミン ,  吸着 ,  吸着エネルギー ,  比表面積 ,  体積 ,  細孔 ,  窒素 ,  *二酸化ケイ素 ,  *メソポーラスシリカ ,  細孔容積
準シソーラス用語： *シリカ

分類 (1件)： 触媒操作  (XE01050T)

物質索引 (2件)： 3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン ,  テトラメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： 温度制御 ,  か焼 ,  強酸 ,  官能基化 ,  メソポーラスシリカ