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J-GLOBAL ID：200902204235350579   整理番号：09A0282298

プラズマCVDを用いた環境セル用隔膜の開発

Development of Diaphragm for Environmental Cell by Plasma UVD

著者 (3件)： 筒井秀徳 (近畿大 理工) ,  松谷貴臣 (近畿大 理工) ,  川崎忠寛 (名古屋大 大学院工学研究科)
資料名： プラズマ応用と複合機能材料  (Conference Journal of the IAPS Meeting)
巻： 18  ページ： 91  発行年： 2009年03月 
JST資料番号： L6242A  ISSN： 1340-9557  CODEN： POFZFU  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： カーボン膜に替わる化学的に不活性で高強度のホウ素系隔膜を,プラズマ化学気相成長法(p-CVD法)により作製するための手順を述べた。成膜後,アセトンによりトリアセチル-セルロース(TAC)膜をエッチングし,加速電圧200kVの透過型電子顕微鏡(TEM)により評価した。p-CVD法を用いて孔直径70μmのCuメッシュを覆う,電子線に対して安定な非結晶質の酸化ホウ素膜を作製することに成功した。

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  隔膜 ,  *酸化ホウ素 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *薄膜 ,  セルロースアセテート ,  エッチング ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： アセチルセルロース

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： アセトン

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマCVD ,  環境 ,  セル ,  隔膜 ,  開発