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J-GLOBAL ID:200902204268744637   整理番号:05A0022923

ArF及びF2エキシマレジスト上の微小気泡の付着機構

Adhesion Mechanism of Micro Bubbles on ArF and F2 Excimer Resists
著者 (2件):
資料名:
巻: 17  号:ページ: 713-714  発行年: 2004年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (2件):
  • 1. D. H. Kaelble, J.Appl. Polym. Sci., 18 (1974) 1869.
  • 2. F. M. Fowks, Ind. Eng. Chem., 56 (1964) 40
タイトルに関連する用語 (4件):
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