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J-GLOBAL ID:200902205580796675   整理番号:08A0286240

イオンビーム照射ポリフッ化ビニリデン薄膜のエッチング挙動 エッチング前処理・照射イオン効果の検討

Etching Behavior of Poly(vinylidene fluoride) Thin Films Irradiated with Ion Beams-Effect of Irradiated Ions and Pretreatment
著者 (9件):
資料名:
巻: 65  号:ページ: 273-276 (J-STAGE)  発行年: 2008年 
JST資料番号: G0122A  ISSN: 0386-2186  CODEN: KBRBA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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4種類のイオンビームで照射されたポリ(ビニリデンフルオリド)薄膜を,異なった温度で30日間または90日間大気中で保管後に9M-KOH水溶液に暴露した。電気伝導度測定法によると,120°Cの加熱は全体におけるそれを変えることのなく潜トラックにおけるエッチ速度を増すことがわかった。その結果,ナノ径貫通孔調製に非常に高いエッチング感度を得た。この前処理の間のヒドロ過酸化物の生成は,エッチング剤の導入を容易にしエッチング能を向上する。より高い線エネルギー付与(LET)イオンの照射は,各トラックがより多くの活性化部位(ラジカルのような)を含むことを引き起こして,さらに,エッチングの高感度を達成するために望ましかった。
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分類 (1件):
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高分子固体の物理的性質 
引用文献 (12件):

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