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J-GLOBAL ID：200902206295603142   整理番号：04A0395252

rf-スパッタリングしたCr-B-N薄膜の組織および機械的性質に及ぼす窒素の影響

Influence of nitrogen on the structure and mechanical properties of r.f.-sputtered Cr-B-N thin films

著者 (3件)： ZHOU M (Osaka Univ., Ibaraki, JPN) ,  NOSE M (Takaoka National Coll., Takaoka, JPN) ,  NOGI K (Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 183  号： 1  ページ： 45-50  発行年： 2004年05月01日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： rf-プラズマ支援マグネトロンスパッタリング法により,CrB...

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性

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分類 (1件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (7件)： RF ,  スパッタリング ,  Cr ,  薄膜 ,  組織 ,  機械的性質 ,  窒素