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J-GLOBAL ID：200902206516497539   整理番号：08A0387219

強磁場配列によるSi₃N₄セラミックスのテクスチャリング

Texturing of Si₃N₄ Ceramics via Strong Magnetic Field Alignment

著者 (4件)： ZHU Xinwen (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  SUZUKI Tohru S. (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  UCHIKOSHI Tetsuo (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  SAKKA Yoshio (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 368/372 Pt.1  ページ： 871-874  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 静的,回転磁場によるβ-Si₃N₄のテクスチャ発達について検討した。12Tの静磁場と回転磁場中でβ-Si₃N₄粒子(0.63μm)を種結晶とし,α-Si₃N₄粉末を鋳込成形した。CIP成形後1800°Cで焼結した。12Tの静磁場によりa,b軸に配向し,回転磁場でc軸に配向したβ-Si₃N₄が得られた。種結晶と保持時間もテクスチャに影響した。

シソーラス用語： *窒化ケイ素 ,  *セラミック ,  *強磁場 ,  *配列 ,  *集合組織 ,  静磁場 ,  回転磁場 ,  種結晶 ,  *鋳込成形 ,  *焼結 ,  配向 ,  助剤 ,  酸化イットリウム ,  酸化アルミニウム ,  ポリエチレンイミン ,  スラリー ,  密度 ,  焼結体
準シソーラス用語： 焼結助剤 ,  成形体

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 強磁場 ,  Si3N4 ,  セラミックス ,  テクスチャリング