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J-GLOBAL ID：200902206676469230   整理番号：09A0027388

Fe₃Si/NC-FeSi₂人工格子の強磁性層間結合に及ぼす電流注入および光照射の効果

著者 (9件)： 堺研一郎 (九大 大学院総合理工学府) ,  武田薫 (九大 大学院総合理工学府) ,  武田薫 (福岡工大 工) ,  吉武剛 (九大 大学院総合理工学府) ,  坂本佳輝 (九大 大学院総合理工学府) ,  板倉賢 (九大 大学院総合理工学府) ,  桑野範之 (九大 大学院総合理工学府) ,  梶原寿了 (福岡工大 工) ,  永山邦仁 (九大 大学院工学府)
資料名： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集
巻： 34  ページ： 54  発行年： 2008年11月29日 
JST資料番号： L1487A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ケイ化物 ,  鉄化合物 ,  *磁性薄膜 ,  *半導体薄膜 ,  多層膜 ,  人工超格子 ,  スピントロニクス ,  *レーザ照射 ,  *鉄合金 ,  ケイ素含有合金 ,  B2型金属間化合物 ,  ナノ結晶 ,  *スパッタ蒸着 ,  反強磁性 ,  強磁性 ,  *磁気ヒステリシス ,  *半導体金属接合
準シソーラス用語： *ケイ化鉄 ,  電流注入

分類 (2件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  半導体-金属接触  (BM03084G)

タイトルに関連する用語 (6件)： NC ,  人工格子 ,  強磁性 ,  層間結合 ,  電流注入 ,  光照射