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J-GLOBAL ID:200902208089746029   整理番号:08A0392305

α-SiC基板上における3C-SiCの気液固相成長 1 成長機構

Vapor-Liquid-Solid Growth of 3C-SiC on α-SiC Substrates. 1. Growth Mechanism
著者 (6件):
資料名:
巻:号:ページ: 1044-1050  発行年: 2008年03月 
JST資料番号: W1323A  ISSN: 1528-7483  CODEN: CGDEFU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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α-炭化ケイ素の4H-および6H-SiC(0001)面,Si面,C面上におけるSi-Ge共融混合物とプロパン/H2/Arガス(炭素源)の反応により,3C-SiC炭化ケイ素層を成長させた。原子間力顕微鏡,電子後方散乱回折(EBSD)によりキャラクタリゼーションを行った。基板の種類および温度によりon-axis,off-axis,双晶などのドメインが観測された。高温ではホモエピタクシー,低温では双晶が生成する。3C-SiCおよびホモエピタクシ相の成長機構を考察した。
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分類 (4件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  その他の無触媒反応  ,  固体デバイス材料  ,  非金属化合物 
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